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イシカワ ヤスアキ
ISHIKAWA Yasuaki
石河 泰明 所属 青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2018/07 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Photosensitive polysiloxane passivation fabricated at low temperature for highly reliable amorphous InGaZnO thin-film transistors |
| 執筆形態 | 共同 |
| 掲載誌名 | Jpn. J. Appl. Phys. |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 57,pp.090306-1-5 |
| 著者・共著者 | Naofumi Yoshida, Juan Paolo Bermundo, Yasuaki Ishikawa, Toshiaki Nonaka, and Yukiharu Uraoka |
| DOI | 10.7567/JJAP.57.090306 |