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イシカワ ヤスアキ
ISHIKAWA Yasuaki
石河 泰明 所属 青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2018/10 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Influence of ALD Precursors and High-Pressure Water Vapor Annealing on Al2O3/GaN MOS Capacitor Characteristics |
| 執筆形態 | 共同 |
| 掲載誌名 | AIP Adv. |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 8,pp.105103-1-6 |
| 著者・共著者 | Mutsunori Uenuma, Kiyoshi Takahashi, Sho Sonehara, Yuta Tominaga, Yuta Fujimoto, Yasuaki Ishikawa, and Yukiharu Uraoka |
| DOI | 10.1063/1.5041501 |