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イシカワ ヤスアキ
ISHIKAWA Yasuaki
石河 泰明 所属 青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2015/05 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Comparison between Effects of PECVD-SiOx and Thermal ALD-AlOx Passivation Layers on Characteristics of Amorphous InGaZnO TFTs |
| 執筆形態 | 共同 |
| 掲載誌名 | ECS J. Solid State Sci. Technol. |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 4(7),pp.Q61-Q65 |
| 著者・共著者 | Jun Tanaka, Yoshihiro Ueoka, Koji Yoshitsugu, Mami Fujii, Yasuaki Ishikawa, Yukiharu Uraoka, Kazushige Takechi, and Hiroshi Tanabe |
| DOI | 10.1149/2.0231507jss |