イシカワ　ヤスアキ   ISHIKAWA Yasuaki   石河　泰明    所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2016/02
形態種別	学術雑誌
査読	査読あり
標題	Reactivity and stability of thallium oxide for fabricating TlSnZnO toward thin-film transistors with high mobility
執筆形態	共同
掲載誌名	J. Alloy. Comp.
掲載区分	国外
巻・号・頁	672,pp.413-418
著者・共著者	Katsushi Kishimoto, Yoshitaro Nose, Yasuaki Ishikawa, Mami N. Fujii, and Yukiharu Uraoka
DOI	10.1016/j.jallcom.2016.02.199